奥谱天成光谱仪：解锁膜厚测量新维度！

早期膜厚测量依赖光学显微镜、电子显微镜等接触式手段，虽能获取基础数据，但存在两大瓶颈：

精度局限：纳米级薄膜测量时分辨率不足，难以满足先进制程需求；

样品损伤：接触式操作可能破坏薄膜表面结构，尤其不适用于脆弱涂层。

随着光学技术革新，白光干涉法成为主流。奥谱天成光纤光谱仪基于这一原理，通过分析光在薄膜 - 基底界面反射形成的干涉条纹，实现纳米级厚度反演。这种非接触式测量不仅避免样品损伤，更能通过宽光谱覆盖（紫外 - 可见 - 红外），适配从透明介质到复杂吸收膜层的多元场景。

（一）核心技术亮点

非接触式无损检测无需物理接触样品，避免传统探针法对软质薄膜（如光刻胶、有机涂层）的损伤，适用于脆弱型或多层复合结构测量。

宽光谱灵活适配

紫外可见波段（200-1100nm）：针对透明 / 半透明薄膜（如 SiO₂、SiNx），通过白光干涉实现纳米级精度（±1nm）;

近红外波段（900-2500nm）：穿透性更强，适合厚膜（如 PCB 涂覆层、太阳能电池减反膜）及含水分 / 有机物的吸收性薄膜测量。

实时在线监测紧凑模块化设计支持集成至生产线，通过 Y 型光纤传输光信号，实现薄膜沉积 / 涂布过程的原位动态追踪，助力工艺参数实时优化。

（二）明星产品矩阵

（三）行业应用图谱

半导体制造：监测光刻胶涂层厚度（50nm-5μm），保障刻蚀精度;

光学镀膜：测量增透膜、滤光片等多层膜厚度，优化光谱特性；

显示面板：检测触控屏 ITO 导电层厚度（100-500nm），确保导电性能;

新能源领域：分析光伏电池减反膜（±2nm 精度）与锂电池电极涂层（5-50μm），提升能量转化效率。