4008-508-928

SM280_自动显微薄膜厚度测绘仪

|
型号 : SM280
关键词 : 膜厚仪
产品详情

综合概述

SM280是一款利用利用薄膜反射光干涉原理研制而成的显微薄膜厚度测绘仪。 它利用波长范围最宽为最宽200-1700nm的光垂直入射到薄膜表面,只要薄膜有一定程度的透射,SM280就能根据反射回来的干涉光谱拟合计算出薄膜的厚度,以及其他光学常数如反射率、折射率和消光系数等,其厚度最大测绘范围可以达到10nm~100um

SM280自动显微薄膜厚度测绘仪采用显微系统,可以进一步缩小光斑大小,从而实现非常优秀的空间分辨率。同时,SM280采用一体化设计,核心器件采用高分辨率、高灵敏度光谱仪和高精度的3轴移动平台,结合奥谱天成独有的算法技术,为用户提供的全新一代领先的自动显微薄膜厚度测绘仪。


产品特征

l 非接触式、非破坏性的测试系统;

l 精细光斑,更佳空间分辨率;

l 超长寿命光源,更高的发光效率;

l 高分辨率、高灵敏度光谱仪,测绘结果更准确可靠;

l 软件界面直观,操作方便省时;

l 集成实时摄像头,监控测量点;

l 配备显微物镜,支持检测小尺寸样品;

l 测绘速度快,支持多点测绘点位地图绘制;

l 支持绘制样品2D/3D厚度分布图;

l 高精度、长寿命的3轴移动平台;

l 历史数据存储,帮助用户更好掌握结果;

l 桌面式分布设计,适用场景丰富;



应用领域

基本上所有光滑的、半透明的或低吸收系数的薄膜都可以测绘,这几乎包含了所有的电介质和半导体材料,包括:

氧化硅、氮化层、类钻薄膜、多晶硅、光刻胶、高分子、聚亚酰胺、非晶硅等。

l 半导体镀膜:光刻胶、氧化物、淡化层、绝缘体上硅、晶片背面研磨;

l 液晶显示:间隙厚度、聚酰亚胺、ITO透明导电膜;

l 光学镀膜:硬涂层、抗反射层;

l 微电子系统:光刻胶、硅系膜状物、印刷电路板;

l 生物医学:医疗设备、Parylene



1. SM280的工作原理

当入射光穿透不同物质的界面时将会有部分的光被反射,由于光的波动性导致从多个界面的反射光彼此干涉,从而使反射光的多波长光谱产生震荡的现象。从光谱的震荡频率,我们可以判断不同界面的距离进而得到材料的厚度(愈多的震荡代表较大的厚度),而其他的材料特性如折射率与粗糙度也能同时测量,如下图。


奥谱天成充分吸收行业痛点、深挖客户需求,倾心打造国内领先的自动薄膜厚度测绘仪-SM280,其由主机光源发射光线,经由Y型光纤照射到被测样品表面。Y型光纤由7根细光纤组成一个梅花状,外侧6根光纤射出光线,中间的一根光纤将反射回的干涉光导回到主机内部的光谱仪进行测量和计算,SM280系统原理见如下图。

SM280的测绘方式可以是极性、矩形或线性的,主机内置高性能运动控制器赋能可旋转平台支持多种预定义测绘方式,配备的上位机软件支持用户创建自己的测绘方式而不受测量点数量的限制,测量结果支持2D和3D呈现,点位地图支持的形态:

*圆形/方形

*放射状


*中心或边缘排除

*点位密度


SM280自动光学薄膜厚度测绘仪

型号

SM280-UV

SM280-UVX

SM280

SM280-EXR

一般规格

光谱波长

200nm-1000nm

200nm-1700nm

400nm-1000nm

400nm-1700nm

光源

氘卤组合灯

钨卤素灯

测量规格

1

5X物镜

/

/

20nm-40um

20nm-100um


10X物镜

/

/

20nm-30um

20nm-70um


15X物镜

10nm-30um

10nm-100um

20nm-40um

20nm-80um


50X物镜

/

/

20nm-1um

20nm-2um


基本要求

操作系统

Windows10/11

指示灯

氘灯指示、卤灯指示

卤灯指示

按键

电源按键、氘灯、卤灯

电源按键、卤灯开关

外部接口

电源插座、USB 2.0、RJ45

扫描平台

旋转+X轴移动+Z轴移动

可移动行程

150mm*360°

材质

铝合金

供电电源

100~240VAC,50~60Hz

包装清单

主机、测量平台、电源线、通信线缆、光学探头、Y型光纤

备注:1.取决于材料;2. 取较大者,且取决于材料;3.通光孔径;








留言提交
会员登录
登录
我的资料
留言
回到顶部